glenresearch氨基改性劑 C6 dA說明書

　更新時間：2021-06-23　點擊量：1394

glenresearch氨基改性劑 C6 dA說明書

5'-二甲氧基三苯甲ji-N6-苯甲酰基-N8-[6-(三氟乙酰氨基)-己-1-基]-8-氨基-2'-脫氧腺苷-3'-[(2-氰乙基)-(N,N-二異丙基)]-亞磷酰胺

產品規格

公式：

C 55 H 65 F 3 N 9 O 8 P

兆瓦：

1068.14

固件：

427.40

CAS號：

1301170-09-1

描述

序列修飾符設計用于自動合成。羧基-dT 在脫保護過程中水解，可以通過標準肽偶聯或通過中間體 N-羥基琥珀酰亞胺 (NHS) 酯直接偶聯到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成過程中，可以分別添加氨基修飾劑 dA、氨基修飾劑 dC、N2-氨基修飾劑 dG 和兩種氨基修飾劑 dT 產品以代替 dA、dC、dG 和 dT 殘基。相應的氨基修飾劑支持物可以代替它們各自的脫氧核苷支持物。去保護后，C6 類似物上的伯胺通過總共有 7 -10 個原子的間隔臂與寡核苷酸分開，并且可以被標記或連接到酶上。

細節

用法

偶聯：氨基改性劑 C6 dA 以與正常亞磷酰胺相同的方式反應。為防止副反應，請使用乙酰保護的 dC 進行合成。有關更多詳細信息，請參閱脫保護。
去保護：不需要對合成器制造商推薦的標準方法進行更改。TFA 保護基團在標準氫氧化銨脫保護過程中被去除。氨脫保護過程中的輕微副反應會導致 2-5% 的胺不可逆地封端。如果多次添加修飾符，這可能很重要。為了防止反應，使用乙酰保護的 dC 合成，并在 30% 氨/40% 甲胺 1:1 (AMA) 中在 65°C 下進行 15 分鐘的脫保護。